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[신규장비] 절연막 원자층 증착기
- 등록일 2020.04.17
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첨부파일
절연막 원자층 증착기_장비안내.hwp
한국나노기술원에 도입된 절연막 원자층 증착기를 소개합니다.
300mm 대구경 단일 챔버 원자층 증착 시스템 (Single-chamber Atomic Deposition System)으로 12인치 이하의 기판 위에 수 Å의 원자층 두께를 가지는 절연 박막 증착이 가능합니다.
본 시스템은 4월부터 이용할 수 있습니다.
○ 장비명
(국문) 절연막 원자층 증착기
(영문) Atomic Layer Deposition-Insulators
○ 제조사 : (주)엔씨디
○ 모 델 : Lucida M300PL-O
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○ Specifications ㆍWafer size : pieces ∼ 12inch ㆍProcess gas : O2, N2, Ar, O3, H2 ㆍTemperature : R.T ∼ 500℃ ㆍProcess mode : Thermal ALD, Plasma Enhanced ALD ㆍRF plasma kits ㆍ4 Precursors |
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○ Application ㆍ시스템반도체 및 GaN 기반 소자의 절연막 / 보호막 형성 ㆍOxide Process - Al2O3, HfO2, ZrO2, Ta2O5 |
관련 문의 : 한국나노기술원 시스템반도체 공정개발실 이지환 선임연구원
031-546-6226 (heekwan.lee@kanc.re.kr)