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반도체 공정장비 (Photo) 심화 교육 교육생 모집 안내
- 등록일 2023.03.06
- 조회수 598
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첨부파일
반도체 공정장비(Photo) 심화 교육_교육생 모집 안내.hwp 교육신청서.hwp 개인정보수집이용동의서.hwp 23년도 사전조사설문지.hwp
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반도체 공정장비 (Photo) 심화 교육 교육생 모집 안내 |
■ 교 육 명 : 반도체 공정장비 심화 교육 (Photo)
■ 교육목표 : 반도체 소자 제작을 위해 필요한 포토/리소 공정을 이해하여 산업 현장에서 활용 가능한 실무 역량 향상을 위한 전문 인력양성
■ 교육기간 : 2023년 3월 27일(월) ~ 3월 28일(화) (총 16시간, 1일 8시간)
■ 교육장소 : 한국나노기술원 6층 교육장 & FAB (수원시 영통구 광교로 109)
■ 교육대상 및 모집인원
1) 교육대상 : 반도체/디스플레이 관련 중소ㆍ중견기업 재직자
2) 모집인원 : 8명(선착순 마감) * 예비자 적정 인원으로 추가 모집 예정
■ 교 육 비 : 무료
■ 신청기간 및 방법
1) 신청기간 : 2023년 3월 6일(월) ~ 3월 22일(수)
* 8명 이상 신청 시에는 3월 22일 이전이라도 신청 기간이 종료됩니다.
2) 신청방법 : 한국나노기술원(www.kanc.re.kr) 홈페이지 접속 > 공지사항 > 교육과정 확인 후 교육신청서/사전조사 설문지 작성/첨부하여 E-mail 신청, 접수(training@kanc.re.kr)
■ 문의처
1) 교육과정 문의 : 한국나노기술원 박주한 연구원 (T. 031-546-6233/E.-mail training@kanc.re.kr)
■ 기타 안내사항
- 교육 신청서와 함께 반드시 재직증명서와 개인정보보호 수집동의서(별첨)를 제출하여야 합니다.
- 인원이 적을 경우, 해당 교육과정은 개설되지 않을 수 있습니다.
- 식은 무료로 제공되나, 주차요금은 지원되지 않으므로 대중교통 이용바랍니다.
- 교육생 선발 여부는 교육 시작일 기준으로 2~3일 전까지 개별 안내 예정입니다. (이메일 및 문자)
- 본 과정은 실습을 포함한 2일 과정으로 업무 일정을 충분히 고려하여 신청해주시기 바라며, 사전 연락 없이 불참 시 소속 기업의 교육 신청이 제한될 수 있습니다.
■ 세부 교육 내용
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과 정 명 |
반도체 단위공정 (Photo) 심화 교육 |
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교육목표 |
반도체 소자 제작을 위해 필요한 포토/리소 공정의 단위 공정을 이해하여 소자 제작에 영향을 미치는 기술들을 파악하여 산업 현장에서 활용 가능한 반도체 단위 공정의 실무 기술 역량 향상을 위한 전문 인력양성 |
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교육내용 |
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교육대상 |
반도체 단위공정 중 Photo 공정 기술력이 요구되는 산업체 재직자 |
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교육인원 |
8명(1개조) |
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활용장비 |
Track(PR coating/Devlop), KrF stepper(Exposure), CD SEM 측정, Overlay 측정 등 |
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교육재료 |
웨이퍼(Si 8인치), 포토마스크, PR, 현상액, 청정용품 등 |
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교육기간 |
총 16시간 (1일 8시간 / 2일 과정) |
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일 정 |
주 제 |
교육내용 |
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1일차 |
09:00~10:00 |
오리엔테이션 |
· 교육 과정 안내 (서류 접수) |
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10:00~12:00 |
반도체 공정기술의 이해 (1) |
· 반도체 포토 공정 실무 기술의 이해(1) · Photo 공정 기술(공정/설비) |
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12:00~13:00 |
중 식 |
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13:00~15:00 |
반도체 공정기술의 이해 (2) |
· 반도체 포토 공정 실무 기술의 이해(2) · 단위 공정(Photo) 장비 활용 기술의 이해(EUV 기술 포함) |
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15:00~17:00 |
포토 공정 실무 |
· 실무에서 활용하는 포토 공정 기술 · Track/Stepper/Overlay/CD-SEM |
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17:00~18:00 |
팹 출입 안전교육 |
· 클린룸의 필요성, 원리 등의 이해, 클린룸 내 준수사항 · Fab 내 사용 유해물질(가스,케미컬 등) 이해 · 비상 발생 시 행동 요령 |
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2일차 |
09:00~09:30 |
크린룸 이동 |
· 클린룸 이동 및 방진복 착용 교육 |
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09:30~12:00 |
Photo stepper 실습 |
· PR의 종류, 파라미터, Bake에 따른 코팅 공정이 패턴 형성에 미치는 영향을 실습 · Aligner, Stepper를 활용하여 광원의 종류에 따른 회로 패턴 형성 공정을 실습 |
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12:00~13:00 |
중 식 |
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13:00~15:00 |
CD EM 실습 |
· CD-SEM 측정 실습 · Photo pattern의 Bar/space 구분 및 확인 · Contact/Via hole pattern의 계측 방법 |
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15:00~17:00 |
Overlay 실습 |
· Overlay 장비 활용 실습 · overlay 개념 및 overlay 계측 pattern 이해 |
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17:00~18:00 |
수료식 |
· 교육 평가 및 설문지 작성 · 교육 수료식 개최 |
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※ 위 일정은 교육 여건 및 상황 등에 따라 변동될 수 있습니다.
■ 교육장 오시는 길
한국나노기술원 : www.kanc.re.kr 접속 > 기술원 소개 > 찾아오시는 길
- 주소 : 경기도 수원시 영통구 광교로 109 (동수원 IC에서 10분거리)