패터닝기술
기술명 | 나노소자 분석(3D-AFM)용 자동측정이 가능한 표준시료 제작 기술 | ||
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요약 | ㆍ 2차원 MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) 구조를 3차원으로 확대시킨 FinFET 구조로 변경되는 등 고 집적화된 3차원 적층 통합구조의 3D 형상 측정 및 평가 장비/시스템 개발을 위해서는 50 nm 이하의 선폭 및 고 종횡비의 표준시료 제작 기술이 필수적임. | ||
결과 | |||
사진 |
FinFET 구조의 표준시료 고 종횡비 3차원 구조의 표준시료
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기술적가치 | |||
활동분야 | ㆍ FinFET 및 3차원 적층 통합구조의 형상 및 평가장비 개발을 위한 표준시료 ㆍ AFM, TEM 등 분석 장비 성능 평가를 위한 표준시료 |
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기술관련문의 | ㆍ 공정서비스지원실 김영재 원 (031-546-6238, youngjae.kim@kanc.re.kr) |