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모듈공정기술

게시글
기술명 TSV (Through Silicon Via) 전해도금 기술
주요결과

1.Via hole 45um x 90um deep etching 2. Cu100um 전해도금
3.Cu 100um 전해도금 4. Cu 100um 전해 도금

활동분야 ㆍ 고집적 3D-IC packaging , Image sensors, DSP, DRAM, SRAM, FPGA, Memory등에 이용 된다.
기술관련문의 ㆍ 공정서비스지원실 최재원 선임 (031-546-6220 , jaewon.choi@kanc.re.kr)
플랫폼 기술자료