공지
[재직자 대상 교육] 반도체 단위공정 심화(Photo) 과정_2차 교육생 모집 안내
- 등록일 2024.09.30
- 조회수 830
- 
					첨부파일
											
				
												
							
							 반도체 단위공정 심화(Photo) 과정_교육생 모집 안내_2차.hwp 반도체 단위공정 심화(Photo) 과정_교육생 모집 안내_2차.hwp 교육신청서_rev.hwp 교육신청서_rev.hwp 개인정보이용제공동의서_rev.hwp 개인정보이용제공동의서_rev.hwp
 
2024년 산업맞춤형 전문기술인력양성
| 반도체 단위공정 심화(Photo) 과정_2차 교육생 모집 안내 | 
■ 교 육 명 : 반도체 단위공정 심화(Photo) 과정 2차
■ 교육목표 : 반도체 소자 제작을 위해 필요한 포토/리소 공정을 이해하여 산업 현장에서 활용 가능한 실무 역량 향상을 위한 전문 인력양성
■ 교육기간 : 2024년 10월 29일(화) ~ 10월 30일(수) (총 16시간, 1일 8시간)
■ 교육장소 : 한국나노기술원 6층 교육장 & FAB (수원시 영통구 광교로 109)
■ 교육대상 및 모집인원
1) 교육대상 : 반도체/디스플레이 관련 중소?중견기업 재직자
2) 모집인원 : 10명(선착순 마감) * 예비자 적정 인원으로 추가 모집 예정
■ 교 육 비 : 무료
■ 신청기간 및 방법
1) 신청기간 : 2024년 9월 30일(월) ~ 10월 24일(목)
* 10명 이상 신청 시에는 10월 24일 이전이라도 신청 기간이 종료됩니다.
2) 신청방법 : 한국나노기술원(www.kanc.re.kr) 홈페이지 접속 > 공지사항 > 교육과정 확인 후 교육신청서를 작성/첨부하여 E-mail 신청, 접수(training@kanc.re.kr)
■ 문의처
1) 교육과정 문의 : 한국나노기술원 박주한 연구원 (T. 031-546-6233/E.-mail training@kanc.re.kr)
■ 기타 안내사항
ㆍ 교육 신청서와 함께 반드시 재직증명서와 개인정보보호 수집동의서(별첨)를 제출하여야 합니다.
ㆍ 인원이 적을 경우, 해당 교육과정은 개설되지 않을 수 있습니다.
ㆍ 중식은 무료로 제공되나, 주차요금은 지원되지 않으므로 대중교통 이용바랍니다.
- 교육생 선발 여부는 교육 시작일 기준으로 2~3일 전까지 개별 안내 예정입니다. (이메일 및 문자)
- 본 과정은 실습을 포함한 2일 과정으로 업무 일정을 충분히 고려하여 신청해주시기 바라며, 사전 연락 없이 불참 시 소속 기업의 교육 신청이 제한될 수 있습니다.
■ 세부 교육 내용
| 교육과정명 | 반도체 단위공정(Photo) 심화 교육 | 
| 교육 목표 | 반도체 소자 제작을 위해 중요한 포토 공정의 응용 기술을 이해하여 소자 제작에 영향을 미치는 기술들을 파악함으로서 산업 현장에서 활용 가능한 실무기술 역량 향상을 위한 전문 인력양성 | 
| 교육 내용 | - 포토 공정을 이해하고 장비를 활용하는 실습 교육 - 공정에서 중요시 되는 핵심기술을 이해하고 실습을 통해 익힘 | 
| 교육 대상 | 반도체 단위공정 중 포토공정 기술력이 요구되는 산업체 재직자 | 
| 교육 인원 | 10명 | 
| 활용 장비 | Aligner, Stepper, Track, CD-SEM, Overlay 측정기 등 | 
| 교육 재료 | 웨이퍼(Si 8인치),포토마스크,PR,현상액,Gas,케미컬,DI,PCW,청정용품 등 | 
| 교육 기간 | 16시간 | 
* 교육 개요
* 세부 일정
| 일 정 | 주 제 | 교육내용 | |
| 1일차 | 09:00~10:00 | 오리엔테이션 | 교육 과정 안내 및 조 편성 | 
| 10:00~11:00 | 팹 출입 안전교육 | ·클린룸의 필요성, 원리 등의 이해, 클린룸 내 준수사항 ·Fab 내 사용 유해물질(가스,케미컬 등) 이해 | |
| 11:00~12:00 | 주요공정 이론교육 | ·주요 공정 실무기술의 이해 | |
| 12:00~13:00 | 중 식 | ||
| 13:00~18:00 | 포토공정 실무 교육 | ·주요 공정 이슈 소개 ·포토공정 최신 기술동향 이해 | |
| 2일차 | 09:00~12:00 | Photo 현상 공정 이해 | ·Track을 활용한 PR 코팅, soft bake, PEB, 현상공정 방법 실습과 패턴공정의 불량요소를 파악 | 
| 12:00~13:00 | 중 식 | ||
| 13:00~15:00 | Photo 노광 공정 이해 | ·Aligner, Stepper를 활용하여 광원의 종류에 따른 회로 패턴 형성 공정을 실습 | |
| 15:00~17:00 | Photo PR 특성 이해 | ·PR의 종류, 파라미터, Bake에 따른 코팅 공정이 패턴 형성에 미치는 영향을 실습 | |
| 17:00~18:00 | 교육 평가 및 수료식 | ·교육 평가 및 수료식 개최 | |
※ 위 일정은 교육 여건 및 상황 등에 따라 변동될 수 있습니다.
■ 교육장 오시는 길
- 한국나노기술원 : www.kanc.re.kr 접속 > 기술원 소개 > 찾아오시는 길
- 주소 : 경기도 수원시 영통구 광교로 109 (동수원 IC에서 10분거리)


 
							