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	01	02 신청시작(학생)Insulator/Si etcher (8“ Insulator dry etch 장비) 신청시작(기관)Insulator/Si etcher (8“ Insulator dry etch 장비) 신청시작(학생)Manual alignerⅠ, Spin coaterⅡ/, Hot plateⅠ, Develop wet bench, / Organic wet bench(조각 패턴형성) 신청시작(기관)Manual alignerⅠ, Spin coaterⅡ/, Hot plateⅠ, Develop wet bench, / Organic wet bench(조각 패턴형성) 신청시작(기관)TrackⅥ, Manual alignerⅡ, Spray developer & Auto AlignerⅣ (8inch 패턴 형성) 신청시작(학생)TrackⅥ, Manual alignerⅡ, Spray developer & Auto AlignerⅣ (8inch 패턴 형성) 교육시작ICP EtcherⅣ (6“ Si DRIE 장비) 교육시작HDP-CVD, PECVDⅢ, Optical thickness, Stress measurement(절연박막증착 및 측정 장비) 교육시작KrF stepper, TrackⅤ(8inch nano scale 패턴형성)	03 교육시작FTIR 분석	04 신청시작(학생)FE-SEM 분석 신청시작(기관)FE-SEM 분석 신청시작(학생)DC & CV 측정 교육 신청시작(기관)DC & CV 측정 교육 신청시작(학생)Organic/Acid/Alkali Wet Bench(Station), SPM wet station, Acid wet station(산업화)(세정/습식식각) 신청시작(기관)Organic/Acid/Alkali Wet Bench(Station), SPM wet station, Acid wet station(산업화)(세정/습식식각) 신청시작(기관)ICP EtcherⅢ, RIEⅡ (6“ Insulator dry etch 장비) 신청시작(학생)ICP EtcherⅢ, RIEⅡ (6“ Insulator dry etch 장비) 신청시작(기관)ALDⅡ, Automatic Ellipsometer(절연막 원자층 증착 및 측정 장비) 신청시작(학생)ALDⅡ, Automatic Ellipsometer(절연막 원자층 증착 및 측정 장비) 신청시작(학생)CD-SEMⅠ(포토 Inspection 장비) 신청시작(기관)CD-SEMⅠ(포토 Inspection 장비) 신청시작(학생)I-line stepper, TrackⅡ (6“ sub micron 패턴형성) 신청시작(기관)I-line stepper, TrackⅡ (6“ sub micron 패턴형성) 신청종료(학생)Insulator/Si etcher (8“ Insulator dry etch 장비) 신청종료(기관)Insulator/Si etcher (8“ Insulator dry etch 장비) 신청종료(학생)Manual alignerⅠ, Spin coaterⅡ/, Hot plateⅠ, Develop wet bench, / Organic wet bench(조각 패턴형성) 신청종료(기관)Manual alignerⅠ, Spin coaterⅡ/, Hot plateⅠ, Develop wet bench, / Organic wet bench(조각 패턴형성) 신청종료(기관)TrackⅥ, Manual alignerⅡ, Spray developer & Auto AlignerⅣ (8inch 패턴 형성) 신청종료(학생)TrackⅥ, Manual alignerⅡ, Spray developer & Auto AlignerⅣ (8inch 패턴 형성) 교육시작TrackⅢ Auto AlignerⅠ, (2 ~ 6“ 패턴형성)	05	06
07	08 신청종료(학생)FE-SEM 분석 신청종료(기관)FE-SEM 분석 신청종료(학생)DC & CV 측정 교육 신청종료(기관)DC & CV 측정 교육 신청종료(학생)Organic/Acid/Alkali Wet Bench(Station), SPM wet station, Acid wet station(산업화)(세정/습식식각) 신청종료(기관)Organic/Acid/Alkali Wet Bench(Station), SPM wet station, Acid wet station(산업화)(세정/습식식각) 신청종료(기관)ICP EtcherⅢ, RIEⅡ (6“ Insulator dry etch 장비) 신청종료(학생)ICP EtcherⅢ, RIEⅡ (6“ Insulator dry etch 장비) 신청종료(기관)ALDⅡ, Automatic Ellipsometer(절연막 원자층 증착 및 측정 장비) 신청종료(학생)ALDⅡ, Automatic Ellipsometer(절연막 원자층 증착 및 측정 장비) 신청종료(학생)CD-SEMⅠ(포토 Inspection 장비) 신청종료(기관)CD-SEMⅠ(포토 Inspection 장비) 신청종료(학생)I-line stepper, TrackⅡ (6“ sub micron 패턴형성) 신청종료(기관)I-line stepper, TrackⅡ (6“ sub micron 패턴형성) 교육시작Insulator/Si etcher (8“ Insulator dry etch 장비)	09 신청시작(기관)XPS 분석 신청시작(학생)XPS 분석 신청시작(학생)Load-pull 측정 교육 신청시작(기관)Load-pull 측정 교육 신청시작(기관)XRF(8“ inspection 장비) 신청시작(학생)XRF(8“ inspection 장비) 신청시작(학생)W/plasma CVD(8“ W/절연박막증착 장비) 신청시작(기관)W/plasma CVD(8“ W/절연박막증착 장비) 신청시작(학생)Endura / Evatec sputter(8“ 금속박막증착비) 신청시작(기관)Endura / Evatec sputter(8“ 금속박막증착비) 교육시작TrackⅥ, Manual alignerⅡ, Spray developer & Auto AlignerⅣ (8inch 패턴 형성)	10	11 교육시작Manual alignerⅠ, Spin coaterⅡ/, Hot plateⅠ, Develop wet bench, / Organic wet bench(조각 패턴형성)	12	13
14	15 교육시작Organic/Acid/Alkali Wet Bench(Station), SPM wet station, Acid wet station(산업화)(세정/습식식각)	16 신청종료(기관)XRF(8“ inspection 장비) 신청종료(학생)XRF(8“ inspection 장비) 신청종료(학생)Endura / Evatec sputter(8“ 금속박막증착비) 신청종료(기관)Endura / Evatec sputter(8“ 금속박막증착비) 교육시작ICP EtcherⅢ, RIEⅡ (6“ Insulator dry etch 장비) 교육시작ALDⅡ, Automatic Ellipsometer(절연막 원자층 증착 및 측정 장비) 교육시작I-line stepper, TrackⅡ (6“ sub micron 패턴형성)	17 신청종료(기관)XPS 분석 신청종료(학생)XPS 분석 신청종료(학생)Load-pull 측정 교육 신청종료(기관)Load-pull 측정 교육 교육시작FE-SEM 분석 교육시작DC & CV 측정 교육	18 교육시작CD-SEMⅠ(포토 Inspection 장비)	19	20
21	22 교육시작XRF(8“ inspection 장비) 신청종료(학생)W/plasma CVD(8“ W/절연박막증착 장비) 신청종료(기관)W/plasma CVD(8“ W/절연박막증착 장비)	23 교육시작Endura / Evatec sputter(8“ 금속박막증착비)	24 교육시작XPS 분석 교육시작Load-pull 측정 교육	25	26	27
28	29	30 교육시작W/plasma CVD(8“ W/절연박막증착 장비)