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반도체 공정장비 (Thin Film) 심화 교육 교육생 모집 안내

반도체 공정장비 (Thin Film) 심화 교육 교육생 모집 안내

■ 교 육 명 : 반도체 공정장비 심화 교육 (Thin Film)

■ 교육목표 : 반도체 소자 제작을 위해 중요한 빅막증착 공정의 응용기술을 이해하여 산업 현장에서 활용 가능한 실무기술 역량 향상을 위한 전문 인력양성

■ 교육기간 : 2023년 3월 29일(수) ~ 3월 30일(목) (총 16시간, 1일 8시간)

■ 교육장소 : 한국나노기술원 6층 교육장 & FAB (수원시 영통구 광교로 109)

■ 교육대상 및 모집인원

1) 교육대상 : 반도체/디스플레이 관련 중소ㆍ중견기업 재직자

2) 모집인원 : 8명(선착순 마감) * 예비자 적정 인원으로 추가 모집 예정

■ 교 육 비 : 무료

■ 신청기간 및 방법

1) 신청기간 : 2023년 3월 7일(월) ~ 3월 24일(금)

* 8명 이상 신청 시에는 3월 24일 이전이라도 신청 기간이 종료됩니다.

2) 신청방법 : 한국나노기술원(www.kanc.re.kr) 홈페이지 접속 > 공지사항 > 교육과정 확인 후 교육신청서/사전조사 설문지 작성/첨부하여 E-mail 신청, 접수(training@kanc.re.kr)

■ 문의처

1) 교육과정 문의 : 한국나노기술원 박주한 연구원 (T. 031-546-6233/E.-mail training@kanc.re.kr)

■ 기타 안내사항

- 교육생 선발 여부는 교육 시작일 기준으로 2~3일 전까지 개별 안내 예정입니다. (이메일 및 문자)

- 본 과정은 실습을 포함한 2일 과정으로 업무 일정을 충분히 고려하여 신청해주시기 바라며, 사전 연락 없이 불참 시 소속 기업의 교육 신청이 제한될 수 있습니다.

■ 세부 교육 내용

교육과정명	반도체 공정장비(Thin Film) 심화 교육
교육 목표	반도체 소자 제작을 위해 중요한 박막증착 공정의 응용 기술을 이해하여 소자 제작에 영향을 미치는 기술들을 파악함으로서 산업 현장에서 활용 가능한 실무기술 역량 향상을 위한 전문 인력양성
교육 내용	- 박막증착 공정을 이해하고 장비를 활용하는 실습 교육 - 공정에서 중요시 되는 핵심기술을 이해하고 실습을 통해 익힘
교육 대상	반도체 단위공정 중 박막증착공정 기술력이 요구되는 산업체 재직자
교육 인원	8명
활용 장비	PE-CVD, Sputter, ALD, 엘립소미터 등
교육 재료	웨이퍼(Si 8인치), Gas, PCW, 청정용품 등
교육 기간	16시간

* 세부 일정

일 정		주 제	교육내용
1일차	09:00~10:00	오리엔테이션	교육 과정 안내 및 조 편성
	10:00~12:00	박막증착 공정 기술의 이해	·Thinfilm 공정 기술의 이해 ·화학적기상증착과 금속막 증착 기술의 차이 이해
	11:00~12:00	박막증착 공정 기술의 이해	·Thinfilm 공정 기술의 이해 ·화학적기상증착과 금속막 증착 기술의 차이 이해
	12:00~13:00	중 식
	13:00~17:00	박막공정 실무 교육	·주요 공정 이슈 소개 ·박막공정 최신 기술동향 이해
	17:00~18:00	팹 출입 안전교육	·클린룸의 필요성, 원리 등의 이해, 클린룸 내 준수사항 ·Fab 내 사용 유해물질(가스,케미컬 등) 이해
2일차	09:00~12:00	화학기상증착 공정 이해	·PECVD를 활용하여 step coverage,uniformity,purity, 전기적특성 등 성능에 영향을 미치는 parameter 형성 공정을 실습
	12:00~13:00	중 식
	13:00~15:00	스퍼터링 공정 이해	·Sputter를 활용한 물리적 증착 공정 실습
	15:00~17:00	원자 증착법 이해	·기존 증착방식과 원자 증착법의 특성 비교 ·ALD 공정 원리 및 활용방법 실습
	17:00~18:00	교육 평가 및 수료식	·교육 평가 및 수료식 개최

※ 위 일정은 교육 여건 및 상황 등에 따라 변동될 수 있습니다.

■ 교육장 오시는 길

한국나노기술원 : www.kanc.re.kr 접속 > 기술원 소개 > 찾아오시는 길

- 주소 : 경기도 수원시 영통구 광교로 109 (동수원 IC에서 10분거리)

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