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[신규장비] P-5000 PECVD 안내
- 등록일 2020.11.25
- 조회수 1482
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첨부파일
P-5000(PECVD)_장비안내.hwp
신규장비 P-5000 PECVD
[한국나노기술원 융합공정기술본부 공정기술실]
[한국나노기술원 융합공정기술본부 공정기술실]
한국나노기술원에 도입된 P-5000 PECVD 절연막 증착장비를 소개합니다.
조각부터 8인치 Wafer까지 가능하며 SiO2,SiN,SiON 등의 절연막을 온도 변화가 가능한 조건하에서 증착 가능합니다.
본 시스템은 11월부터 이용할 수 있습니다.
조각부터 8인치 Wafer까지 가능하며 SiO2,SiN,SiON 등의 절연막을 온도 변화가 가능한 조건하에서 증착 가능합니다.
본 시스템은 11월부터 이용할 수 있습니다.
○ 장비명
(국문) 화학기상증착기 III
(영문) Chemical vapor deposition III
○ 제조사 : AMAT(Applied materials)
○ 모 델 : P-5000
(국문) 화학기상증착기 III
(영문) Chemical vapor deposition III
○ 제조사 : AMAT(Applied materials)
○ 모 델 : P-5000
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○ Specifications ㆍ Wafer size : Pieces ~ 8 inch |
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○ Application ㆍ SiO2 deposition |
관련 문의 : 한국나노기술원 융합공정기술본부 공정기술실 이병오 선임연구원
031-546-6337(byungou.lee@kanc.re.kr)