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[신규장비] Automated Mask Aligner Ⅳ (8inch) 안내


신규장비 Automated Mask Aligner Ⅳ (8inch)
[한국나노기술원 융합공정기술본부 공정기술실]

 

한국나노기술원에 도입된 Automated Mask Aligner Ⅳ (8inch) 노광장비를 소개합니다. 8인치 Wafer 전용이며 Double Side Auto Align 가능한 장비이며 
Hard contact , Soft contact , Proximity Contact 3가지 Contact 방식으로 노광이 가능합니다. 
본 시스템은 12월11일 부터 서비스를 진행하고 있습니다.
 
○ 장비명
 (국문) 자동 자외선 노광기
 (영문) Automated Mask Aligner Ⅳ (8inch)
○ 제조사 : SUSS Micro Tec(독일)
○ 모  델 : MA200Compact
 

  ○ Specifications

    ㆍ Double Side Auto Aligner
    ㆍ Hg Arc Lamp Power : 1000W
    ㆍ Resolution :
        - Hard Contact(1.0㎛), Soft Contact(2.0㎛), Proximity Contact(10㎛)
    ㆍ Align accuracy : Front ± 1.0 ㎛ , Bottom Side : ± 1.5 ㎛
    ㆍ Throughput : over 90wph(Alignment)
    ㆍ Wafer size : 8 inch

  ○ Application

    ㆍ Photo lithography for 2 ㎛ - scale devices
    ㆍ Photo lithography for 2 ㎛ - scale R&D
 
관련 문의 : 한국나노기술원 융합공정기술본부 공정기술실 장민철 선임연구원
                    031-546-6224(minchul.jang@kanc.re.kr)
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