주요사업 및 성과
나노팹 서비스를 통한 지역경제 활성화 및 국가산업발전에 기여
- 나노팹 활용 사업
- 고객친화형 팹 서비스 (맞춤형 One-Stop 서비스)
-
- 신속 정확한 공정 및 분석서비스 제공
- 고품위 공정 및 분석서비스 기반 확립
- 이용자 중심의 개방형 팹운영(Open Fab)
- 지속적인 장비고도화 추진
- 핵심 선행공정 및 분석기술개발
- 미래부 ‘화합물반도체 선행공정 기술 플랫폼 개발사업’
-
- 단순 공정지원의 팹서비스가 아닌 수요자의 고부가 가치 및 집적화 요구에 부응하여 나노기술 및 시장 수요 변화에 선제적 대응
- 고객 지향형 다양한 소자설계 및 기술컨설팅 시스템 운영
- 중장기 계획 (9년간 / 22개 기술 우선 개발)
| 연도 | 팹활용 건수 | 장비가동률(%) | 이용기관수 | 이용자수 |
|---|---|---|---|---|
| 2015년 | 14,337 | 55.0% | 398 | 1,308 |
| 2016년 | 17,482 | 56.4% | 429 | 1,640 |
| 2017년 | 17,377 | 59.1% | 475 | 1,524 |
| 2018년 | 17,982 | 58.0% | 474 | 1,535 |
| 2019년 | 17,851 | 62.9% | 848 | 1,529 |
| 2020년 | 18,276 | 59.4% | 443 | 1,559 |
| 2021년 | 19,497 | 52.3% | 479 | 1,736 |
| 2022년 | 19,903 | 46.1% | 468 | 1,765 |
| 2023년 | 22,519 | 52.8% | 504 | 1,932 |
| 2024년 | 22,876 | 45.9% | 515 | 2,022 |
- 이용자 지원 정부 사업 추진
- 과학기술정보통신부
-
- 대학연구자 지원 대학연구자의 장비사용료의 70% 또는 90%를 지원
- 기대효과 나노 기초원천기술개발을 촉진하고 대학의 연구능력을 제고
- 중소벤처기업부 『연구장비공동활용지원사업』
-
- 중소기업 지원 중소기업 장비사용료의 60% 또는 70%를 온라인 바우처로 지원
- 기대효과 대학 및 연구기관이 보유한 첨단 연구장비의 중소기업 공동활용을 지원하여 국가장비 활용도 제고 및 중소기업 기술경쟁력 향상 기반 마련
- 핵심공정 · 분석기술개발 주요성과
-
- GaN Nanorod Growth를 위한 SiO2 Nano Hole Array 패턴 형성
- GaN 소자 개발을 위한 SiC Deep Etch Process
- Au-In Low Temperature Bonding 공정
- 1차원 구조의 금속산화물 나노소재 패턴형성
- Direct Patterning of SiO2 by E-beam Lithography
- ITO 나노패턴을 이용한 GaN-based LED 광 추출 효율향상
- 포토리소그래피 및 전해도금 기술을 이용한 나노패턴이 형성된 유연금속기판
- 집속이온빔을 이용한 단면 TEM 시편 제작기술
- 애로기술지원 주요성과
-
- MEMS Si guide 제작 요청에 따른 Si High Aspect Ratio Deep RIE 공정
- ICP 방식을 이용한 Si isotropic Etching 공정
- Color Filter 제작을 위한 Ag Nono Hole Array형 구현 공정
- VLED 제작공정을 위한 AIN와 GaN 식각 선택비 향상 공정
- Nano Particle을 이용한 GaN 미세패턴 식각공정
- 20nm급 전극 패터닝 공정
- 수직 정렬형 ZnO 나노로드 패턴 공정
- Photonic Device 적용을 위한 30nm급 나노패턴 공정
- 고감도 E-Beam Resist 나노패턴 공정
- Electro-plating을 이용한 Low Stress 고품질 Ni 패턴형성 공정
- 지역별 및 기관별 활용현황
